据TechSpot报道，采用高NA EUV光刻机对于台积电发展2nm以下工艺至关重要。高NA EUV将数值孔径从0.33提高到0.55，从而实现更高的晶圆分辨率。根据台积电的路线图，高NA ...

【导语】随着科技的迅猛发展，半导体产业的竞争愈发激烈。最近，SK海力士传出消息，正在考虑引进ASML的High NA EUV光刻设备，这项4亿美元的投资将为该公司在下一代存储芯片的生产中注入新的动力。本文将详细解读这一消息的背景、技术特性及其对行业的影响。

近年来，随着人工智能技术的迅猛发展，AI芯片的需求不断攀升，特别是在深度学习和大规模数据处理领域。台积电作为全球最大的半导体代工厂，近期宣布将加速其High-NA EUV（极紫外光刻）技术的布局，以满足市场对高性能芯片的强劲需求。这一举措不仅反映了芯片制造行业的重大变革，也标志着AI技术应用的广泛深入，将对未来科技发展产生深远影响。

据官方消息，Kelp DAO 宣布推出由 Gain 支持的 High Growth Vault（简称 High Gain），旨在将战略多元化与易用性无缝结合，并通过 Aave、Compound 和 Morpho ...

今年9月，台积电（TSMC）从ASML手上接收了其首台High-NA ...