近年来，随着人工智能技术的迅猛发展，AI芯片的需求不断攀升，特别是在深度学习和大规模数据处理领域。台积电作为全球最大的半导体代工厂，近期宣布将加速其High-NA EUV（极紫外光刻）技术的布局，以满足市场对高性能芯片的强劲需求。这一举措不仅反映了芯片制造行业的重大变革，也标志着AI技术应用的广泛深入，将对未来科技发展产生深远影响。

High NA EUV光刻机是全球首款采用0.55NA数值孔径的光刻机，分辨率达到8nm，成像对比度比之前的NXE系列0.33NA EUV系统高出40%，支持2nm逻辑节点图案化，单价高达3.5亿欧元。 Rick Lenssen此前曾花费2.5年时间 ...

在当今科技迅猛发展的时代，人工智能（AI）已经成为全球技术竞争的核心之一，尤其是在半导体制造领域。近日，据报道，台积电正在加速其高纳米极紫外光（High-NA EUV）技术的部署，以满足日益增长的AI芯片需求。这一举措不仅标志着台积电在全球半导体产业链中的领导地位，同时也引发了业界对未来技术发展的深刻探讨。 受AI芯片需求刺激，台积电为何加速布局？ 伴随着AI技术在各个行业中的深入应用，对计算能力 ...

今年9月，台积电（TSMC）从ASML手上接收了其首台High-NA ...

光刻设备制造商ASML近日在其官网纪念品商城推出了一款特别的产品——High NA EUV光刻系统TWINSCAN EXE:5000的乐高模型套装。 这款乐高模型由ASML的员工兼乐高爱好者Rick ...

台湾半导体巨头台积电将在 2024 年底之前从 ASML 接收首批High-NA秒级 EUV 光刻设备，这标志着台积电将向下一代工艺过渡。半导体竞赛中的"三巨头 ...